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日本100W/150W鹵素光源裝置的特點FA-100C/FA-150EN是標準光源裝置，體積小、重量輕、具有多種功能，是圖像處理功能的理想選擇，可一機多用.■可選規(guī)格*過濾器底座規(guī)格F20系列過濾器可以從光纖槽中插入和取出。型號：FA-10...
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日本高亮度鹵素光源裝置介紹高亮度鹵素光源裝置是一種宏觀觀察照明裝置，用于檢測最終成品表面的異物、劃痕、拋光不均勻、霧度、滑移等各種缺陷，是加工過程中勞動強度最大的一種。半導體晶片和液晶基板。概述1.樣品表面可照射到400,000Lx以上。2...
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納米分級機是借助于固體粒大小不同，比重不同，因而在液體中的沉降速度不同的原理，細礦粒浮游在水中成溢流出，粗礦粒沉于槽底。由螺旋推向上部排出，來進行機械分級的一種分級設備，能把磨機內磨出的料粉級于過濾，然后把粗料利用螺旋片旋片旋入磨機進料口，...
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日本檢查燈185le與YP-150I的檢測差別185le適合于TFT面板、CF（彩色濾光片），觸摸屏制造等行業(yè)。標準構成如下。光源：直流點燈17V/185W鹵素燈冷卻方式：強制空冷電源電圧：AC95V～AC260V，50/60Hz尺寸：光源...
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日本太陽科學質構儀CR-3000EX-L與CR-3000EX-S的區(qū)別特征全自動充分利用微機控制方式，可實現(xiàn)復雜模式的自動設定，結合人工設定的間隙設定，按計劃的速率進行測量。測量速度范圍廣試驗臺速度可以從0.5mm/min到1200mm/m...
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日本IMT拋光機SP-L1+IM-P2的使用優(yōu)勢特征用于安裝拋光機IM-P2的樣品旋轉機。拋光嵌入樣品時，如果將SP-L1安裝到拋光機IM-P2上，則可以進行自動拋光。由于可以改變頭的轉速，因此可以以相同的轉速拋光支架和圓盤，防止拋光面傾斜...
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日本nikkato氧化鋯球/氧化鋁球的特性TZ®球?特性特征一種高強度、高韌性的氧化鋯球，具有優(yōu)異的耐磨性和耐久性，以及優(yōu)異的破碎和分散效率。適用于電子元件材料和高性能材料的破碎和分散。還有一種高性能的YTZ®-S。尺寸0....
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軟磁材料的直流磁化特性和非歷史磁化特性檢測技術軟材料BH分析儀用于軟磁材料（軟磁材料）的評價型號：BH-1000概述本裝置具有軟磁材料（軟材料）的直流磁化特性和非歷史磁化特性。這是用于測量極化磁化特性和交流磁化特性的分析儀?？梢岳L制各種特性...
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薄膜測試儀連續(xù)測厚機FT-A200/FT-A200R配備高精度測量頭和放大器單元的機器。只需設置從生產(chǎn)線切出的薄膜，即可輕松連續(xù)測量厚度。FT-A200測量范圍/10μm至200μmFT-A200R測量范圍/3μm至100μm測量分辨率/0...
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薄膜材料咬合檢測用X射線技術Sci-Energy的軟X射線檢測設備是具有壓倒性*的熱門產(chǎn)品。由于它是專門用于咬合檢測的模型，因此它實現(xiàn)了檢測精度。由于可以通過軟X射線技術處理各種薄膜材料，它實現(xiàn)了迄今為止難以實現(xiàn)的檢查過程的自動化。產(chǎn)品特點...
